Ich frage mich, ob die Retikellimits in der Chipfertigung erweitert werden könnten, wenn man gezwungen wäre, in der Peripherie, wo der Fokus nicht so scharf ist, weniger dichte Muster zu verwenden. Oder wenn die Fokusqualität radial ist, könnte man dann etwas mehr Schaltkreise in einem kreisförmigen Die anordnen als im herkömmlichen quadratischen, das darin eingeschrieben ist. Der Ertrag spricht gegen immer größere Dies, aber es könnte Randfälle geben, in denen riesige Dies ansprechender bleiben als Chiplets.